产品介绍:
EM PMMA 电子束光刻胶,正胶。
光源推荐:E-beam。
单层胶厚:30-2000nm。
型号:
950K 0.1-1/495K 0.1-1/120K 0.1-1.2/35K 0.1-1.2
应用:
适用于电子束光刻,纳米压印以及石墨烯转移等。
特性:
● 高分辨率
● 具有多种分子量
上一个产品:没有了
下一个产品:HSQ系列
产品详情
EM PMMA 电子束光刻胶,正胶。
光源推荐:E-beam。
单层胶厚:30-2000nm。
950K 0.1-1/495K 0.1-1/120K 0.1-1.2/35K 0.1-1.2
适用于电子束光刻,纳米压印以及石墨烯转移等。
● 高分辨率
● 具有多种分子量
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