单步工艺

光刻

工艺介绍:

包括紫外接触/接近式光刻、紫外投影步进式光刻、电子束光刻等;

紫外接触接近式光刻:分辨率≥2um,精度±0.5um;

紫外投影步进式光刻:分辨率≥0.5um,精度±0.2um;

可在硅片、玻璃、石英、蓝宝石等硬质衬底及P等柔性材料上进行光刻加工;

可加工尺寸:2-8寸。



  • 光刻
  • 光刻
  • 光刻
  • 光刻
  • 光刻
  • 光刻
Product Inquiry
Product Name *
E-mail *
Phone
Message *
Copyright © 2023 Suzhou Research Materials Micro-Nano Technology Co., Ltd.. All Rights Reserved