定义：
掩模版（Photomask），又称光罩、光掩模、光刻掩模版等；是微电子、集成光电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，常用规格为3-9英寸，常用材料为苏打玻璃/石英玻璃材料，不同规格的尺寸与厚度有区别，需根据用户要求定制；其中不透光区域的材料通常为铬，所以俗称铬版；铬层厚度约为0.1μm，用作芯片制造中较高精度的光掩模。
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