su8光刻胶是正胶还是负胶以及正负光刻胶的分类

          

SU-8光刻胶负性光刻胶

SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。SU-8\xa0光刻胶在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU-8在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形;且 SU-8胶不导电，在电镀时可以直接作为绝缘体使用。由于具有较多优点，SU-8胶正被逐渐应用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前，直接采用 SU-8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。

正负性光刻胶分类

1.光刻胶的分类

⑴ 负胶

1.特点

曝光部分会产生交联(Cross Linking)，使其结构加强而不溶于现像液;

而未曝光部分溶于现像液

经曝光、现像时，会有膨润现像，导致图形转移不良，故负胶一般不用于特征尺寸小于3um的制作中。

2.

分类(按感光性树脂的化学结构分类)

常用的负胶主要有以下两类：

聚肉桂酸酯类光刻胶

这类光刻胶的特点，是在感光性树脂分子的侧链上带有肉桂酸基感光性官能团。如聚乙烯醇肉桂酸酯(KPR胶)、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯(OSR胶)等。

聚烃类—双叠氮类光刻胶

这种光刻胶又叫环化橡胶系光刻胶。它由聚烃类树脂(主要是环化橡胶)、双叠氮型交联剂、增感剂和溶剂配制而成。

⑵ 正胶

1.特点

本身难溶于现像液，曝光后会离解成一种溶于现像液的结构,解像度高，耐性强等。

2.

分类(按感光性树脂的化学结构分类)

目前正胶常用的主要指邻-叠氮醌类光刻胶。

总结：以上是小编总结su8光刻胶是正胶还是负胶以及正负光刻胶的分类，希望大家喜欢