衬底

SOI

产品介绍:

SOI(silicon-on-insulator),即绝缘体上硅,也可理解为在衬底和表面硅薄层间插入一层绝缘层材料。目前主要有注入氧分术(SIMOX)、键合回刻(BESOI)、智能剪切(Smart-Cut)和注氧键合技术(Sim-bond)四种生产方式。


产品分类:

根据不同生产方式分为四类:注入氧分术(SIMOX)、键合回刻(BESOI)、智能剪切(Smart-Cut)和注氧键合技术(Sim-bond)。


规格参数:

直径2~8英寸,器件层厚度100nm~几十μm,不同电阻率大小,背封氧化层厚度,TTV/WORP/BOW等。


产品应用:

SOI硅片主要应用于要求低功耗、高性能和高可靠性的高端芯片领域,如射频前端模块、汽车电子、航空航天及先进微处理器等。


产品优势:

SOI具有寄生电容小、集成密度高、速度快、工艺简单、短沟道效应小等优点,我司SOI均为大厂生产,埋氧层均匀致密,质量有保障。我司SOI库存丰富,可1片起订,也可定制加工。

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