产品介绍：
Microchem PMMA／MMA 系列电子束光刻胶，正胶；
光源推荐：E-beam，X-ray&deep UV imaging；
单层厚度：50-5000nm。
型号：
495K PMMA 1-10/950K PMMA 1-10
应用：
Microchem PMMA/MMA 系列电子束光刻胶适用于电子束光刻，多层T-Gate剥离，晶圆减薄，PHEMT等。
特性：
● 线宽<100nm，极限线宽20nm
● 与基底粘附性好
● 多种分子量，可溶于多种不同溶剂
