lift-off光刻胶

LOR & PMGI lift-off胶

产品介绍:

LOR & PMGI Lift-off 胶,底层胶;

非光敏;

单层厚度50nm-6μm。


型号:

LOR1A/ LOR2A/ LOR3A/ LOR5A/ LOR7A/ LOR10A/ LOR20B;

LOR5B/ LOR10B/ LOR20B;

PMGI-SF3/PMGI-SF6/PMGI-SF9/PMGI-SF11。


应用:

LOR & PMGI Lift-off 胶的主要树脂材料是聚二甲基戊二酰亚胺(PMGI)聚合物,作为牺牲层,非常适用于各种lift-off工艺。LOR & PMGI与传统的正负胶搭配使用,不同的底胶厚度和底切率,满足了广泛的应用要求。例如金属剥离,气桥制造。


特性:

● 可用于<0.25um Lift-off工艺

● 对上层胶无影响

● 与Si,NiFe, GaAs, InP以及一些III–V ,II–VI 材料的粘附性好

● 显影过程简单,无需多余的有机试剂处理

● 与g/h/i-Line,DUV,193nm,E-beam光刻胶兼容

● 易去除

● 良好的耐热稳定性,Tg>190℃

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