产品介绍：
NR系列光刻胶，负胶；
光源推荐：感光波长小于380nm, i-line；
单层厚度：0.5-25um。
型号：
NR9-1500PY/NR9-3000PY/NR9-6000PY/NR9-8000；
NR77-1500PY/ NR77-3000PY/ NR77-6000PY；
NR21-20000P。
应用：
适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化，避免使用干法刻蚀工艺。
特性：
● 在显影过程中形成底切（undercut）
● 根据曝光能量，可以调整光刻胶底切大小
● 通过表面拓扑控制，获得优异的线宽
● 侧壁垂直度好
● 解离度高（厚胶）
● 灵敏度高
● 粘附性好
● 耐高温
