型号：
Remover PG
主要成分：
N-甲基-2-吡咯烷酮 CAS：872-50-4
原理与使用方法：
Remover PG是一种专有的基于 NMP 的溶剂剥离剂，该溶剂可通过溶胀/溶解完全去除Si、Si02、GaAs和其他衬底或晶圆上的PMMA, LOR, SU8, PMGI和其他抗蚀剂也可用作lift-off溶剂。Remover PG在室温下使用，可无浮渣的去除几乎所有抗蚀膜（PMGI & LOR 、 PMMA & copolymer 、 SU-8 、g-Line、i-Line and DUV resists），并且与自动剥离设备兼容。
使用方法：
当在浸入模式下使用时，建议使用两浴系统，以减少去除的抗蚀剂再沉积的可能性。第一槽去除大部分抗蚀剂，第二槽去除残留的痕迹。当去除率显著下降时，应更换去除液浴（可通过处理的晶圆片数量来确定）。第三槽使用与水混溶的溶剂（例如异丙醇），在去离子水（DI）冲洗和干燥之前作为最后的溶剂冲洗。为了提高剥离性能，Remover PG可以在高于环境温度的工作温度下使用，最高80℃。由于Remover PG的闪点为88ºC，注意使用安全！机械或超声波搅拌将增强溶胀/溶解的抗蚀剂从基体上的物理除去效率。
储存:
确保工作间有良好的通风、排气装置；
放入密封的贮藏器，储存在阴凉、干燥的地方；
使用防爆炸的设备或装置和防火花的工具；
远离热源和阳光直射；
远离火源，禁止吸烟；
防静电。
