型号：
Resist Developer RD6
主要成分：
水 >90% CAS 7732-18-5；
四羟基氢氧化铵<3% CAS 75-59-2。
原理与使用方法：
Resist Developer RD6是一种水性无金属离子光刻胶显影剂，适用于负胶NR1, NR5, NR7和NR9系列和正胶PR1系列。也是去除PC4系列的暂时黏附，保护，及平坦化的材料。Resist Developer RD6利用光刻胶曝光区域与未曝光的区域在化学性质的不同，选择性的保留曝光区域或者未曝光区域，获得所需的光刻胶结构，是酸性光刻胶显影的基本溶剂。Resist Developer RD6添加了少量表面活性剂减少倒线产生。
使用方法：
将显影液倒入抗蚀剂显影槽中。确定显影剂的温度正确。按照使用光刻胶技术信息中“处理”部分的说明，通过浸泡或喷涂来显影抗蚀剂。在去离子水中冲洗基材，直至水电阻率达到规定。
储存:
确保工作间有良好的通风、排气装置；
存放在通风良好的地方；
避免阳光直射；
放入密封的贮藏器；
建议在氮气毯下储存。
