型号：

MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER

主要成分：

水 ＞95% CAS 7732-18-5

表面活性剂 ＜1%

四甲基氢氧化铵 2.2% CAS 75-59-2

原理与使用方法：

MF-319显影液专门用于高分辨率半导体器件。它是S1400®和S1800®系列光刻胶的专用无金属离子的显影液。虽然MF-319显影液可以用于浸泡显影、旋喷显影，但最理想的显影方式是喷雾式或者puddle式显影。

储存:

存储在干燥区域，温度范围为50°-90°F（10°-32°C）。

远离酸、阳光、热源和火源。

放入密封的贮藏器。