型号：

PGMEA

主要成分：

丙二醇甲醚醋酸酯 >99.5%  CAS 108-65-6

原理与使用方法：

在光刻过程中，经过曝光的SU-8区域会发生交联反应，而未曝光的区域保持未交联状态。显影液通过溶解这些未交联的SU-8，从而显现出图形。并且具有高选择性，仅溶解未交联的SU-8，而不影响已经交联的区域，从而保证图形的精确度和完整性。

使用方法：

将曝光后烘后的晶圆放入花篮中浸泡在SU-8显影液中，轻轻摇动花篮进行显影。显影时间见工艺条件确定。将底物在异丙醇（IPA）浴液中浸泡约30秒。

注：基材表面有白色残留物表示未显影。重复上述步骤，每次1-2分钟，直到在IPA浴中没有观察到白色残留，再重复一遍上述操作。在氮气流下干燥基材的正面和背面。镜检，若存在未显影区域，重新进行上述显影操作。

储存:

使用无火花或防爆用具。

容器不用时保持封闭。

储存在碳钢、不锈钢和聚四氟乙烯材质的容器内。

禁止吸烟、明火或火种。

所有设备接地。

不要切割、钻孔、研碎、焊接或在空容器旁操作。

不可使用空气加压方法输送产品。