型号：

ZX-238

主要成分：

四甲基氢氧化铵 （TMAH） 2.38% CAS：75-59-2

原理与使用方法：

利用正性光刻胶的曝光区域的化学性质上与未曝光的区域不同，曝光后的光刻胶薄膜在弱碱性溶液中的溶解速率呈两三个数量级的提升，使得其快速溶解，而未曝光区域溶解速率极低得以保留。

根据显影液接触衬底的方式不同，分为浸泡显影、旋喷显影和浸润显影，可根据不同光刻胶厚度等因素来选择。最佳显影的时间取决于光刻胶类型、胶厚、曝光波长、烘烤温度和显影的工序，对膜厚小于2um显影时间不大于2min，例如对于浸没或搅动显影的时间范围在20-60s，不要超过120s。膜厚超过10um的胶层需要2-10min，膜厚达到100um的胶厚，显影时间超过60min，更密集的喷淋式显影要求的时间更短。

储存:

储存于阴凉、通风仓间内。

远离火种、热源。

防止阳光直射。

保持容器密封。

应与酸类和金属粉末等分开存放。