型号：

NMP

主要成分：

N-甲基吡咯烷酮 99.5% CAS 872-50-4

原理与使用方法：

NMP是一种通用的偶极非质子有机溶剂。由于它极性大、溶解性强、沸点高、凝固点低，加之本公司售卖的NMP具有高纯度高品质等特点，在电子信息领域可以用作清洗剂去除光刻胶和其他有机残留物、lift-off工艺的剥离剂、抗蚀剂的稀释剂、锂电池制造中电解质的常见溶剂、有效溶解聚酰亚胺（PI）前体等。

使用方法：

作为去胶剂常见的做法是级联清洗。准备三个清洗槽，第一个槽中几乎完全去除光刻胶残留物。将样品转移到第二个槽中清洗光刻胶残留物，然后转移到第三个槽中，最后用去离子水冲洗干净。当达到预定的溶解能力，将第一个槽中溶液丢弃，将第二个和第三个槽中溶液向上移动一个位置。升高温度（最高80℃），超声/兆声清洗能提高去胶效率。

储存:

储存于阴凉、通风仓间内。

远离火种、热源。

保持容器密封。

应与氧化剂分开存放。

储存间内的照明、通风等设施应采用防爆型，开关设在仓外。

禁止使用易产生火花的机械设备和工具。

定期检查是否有泄漏现象。

灌装时应注意流速(不超过3m／s)，且有接地装置，防止静电积聚。

搬运时要轻装轻卸，防止包装及容器损坏。