名称：

多片陶瓷方片喷涂

用途：

在光电行业或射频行业中，会使用陶瓷基板来制作薄膜电路。用于两寸和四寸等小尺寸的方片的光刻胶涂覆。

核心工艺：

特点：

提高光刻胶涂覆效率：使用旋涂工艺对两寸陶瓷方片进行光刻胶涂覆时，效率较低。如果使用喷胶机，可以同时对多片基板进行喷涂，不仅提高了涂覆效率，还能保证胶厚均匀性，同时节省光刻胶，大部分光刻胶会均匀地留在基板上。

提高光刻良率：方形衬底旋涂无法保证四角和边缘的厚度，会出现很严重的厚胶边，同时会降低中心区域的工艺容差（比如分辨率会下降），从而影响光刻效果，这会严重影响产品的一致性和良率。