名称：

双层SU8光刻

用途：

1、多层微结构制造

用于制造具有多层结构的微纳器件，如微流控芯片、微透镜阵列等。在微流控芯片中实现不同高度和复杂网络的微通道设计。

2、三维微结构

用于光学器件中的微透镜阵列、光波导等三维结构。实现具有三维特征的复杂微结构设计。

核心工艺：

1、双二层SU-8涂覆

难点：确保第二层胶层涂覆均匀且不破坏第一层胶层，控制层间界面质量。

2、重复预烘烤、曝光、后烘烤和显影

难点：两层结构之间的对准精度、曝光能量的匹配、层间结合的牢固性。