产品介绍：

NR系列光刻胶，负胶。

光源推荐：感光波长小于380nm, i-line。

单层厚度：0.5-25um。

型号：

NR9-1500PY/NR9-3000PY/NR9-6000PY/NR9-8000

NR77-1500PY/ NR77-3000PY/ NR77-6000PY

NR21-20000P

应用：

适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺金属图形化，避免使用干法刻蚀工艺。

特性：

● 在显影过程中形成底切（undercut）

● 根据曝光能量，可以调整光刻胶底切大小

● 通过表面拓扑控制，获得优异的线宽

● 侧壁垂直度好

● 解离度高（厚胶）

● 灵敏度高

● 粘附性好

● 耐高温