产品分类：

(1) 高纯金属材料

铝(AI)；铬(Cr)；铜(Cu)；锗(Ge)；镓(Ga)；铪(Hf) ；铟(In)；镍(Ni)；硅(Si)；铂(Pt)；锡(Sn)；钛(Ti)；银(Ag)；金(Au)

(2) 氧化物

氧化铝(AI2O3)；氧化铪(HfO2)；氧化铟锡(ITO)；氧化铌(Nb2O5)；氧化钛(Ti3O5)；氧化钽(Ta2O5)

(3) 硒化物

硒化镉(CdSe)；硒化锌(ZnSe)

(4) 硫化物

硫化锌(ZnS)

(5) 氟化物

氟化镱(YbF3)；氟化铈(CeF3)；氟化钡(BaF2)

应用说明：

用于蒸发沉积各种功能薄膜的贵金属材料。广泛应用于微电子、光电子、信息存储、光学镀膜和装饰等行业。

蒸发镀膜常称真空镀膜。其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。

PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作,因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。