产品介绍:
S1800系列, 正胶、紫外光刻胶。
光源推荐:g-Line,也可以用于宽谱。
单层厚度:0.4-2.7um。
型号:
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
应用:
应用于湿法腐蚀和干法刻蚀,也与底层胶LOR搭配,做lift-off 工艺。
特性:
● 通过最先进的物理、化学和功能测试,保证批次与批次之间的一致性
● 绝对过滤精度0.2um,杂质少
● 不含醋酸纤维素和二甲苯
● 高分辨
● 粘附性好
● 涂胶厚度均匀
● 多种标准粘度可用于单层加工
● 可适用于无金属离子的(MIF)显影液和含金属离子的显影液(MIC)
● 易去胶
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