型号：

MMA

主要成分：

乳酸乙酯   75-100%   CAS  97-64-3

2-甲基-2-丙烯酸与2-甲基-2-丙烯酸甲酯的聚合物 5-25%   CAS 25086-15-1

原理与使用方法：

共聚物光刻胶是基于 PMMA 和 ~8.5% 甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）MAA通常与PMMA结合使用，用于双层剥离光刻胶工艺，其中需要独立控制每个光刻胶层的CD尺寸和形状。标准共聚物光刻胶由乳酸乙酯配制而成，具有多种膜厚范围。MMA（8.5）MAA聚合物电子束正胶具有非常高的灵敏度（数倍于PMMA）因此可以在曝光显影后获得较宽的结构。这是由于在显影过程中光刻胶的溶解速率的巨大差异，从而产生所需的抗蚀剂侧壁轮廓，而一般来说，溶解速率随着分子量的减小而增加。这种对比可能会受到各种工艺策略的进一步影响。

使用方法：

1、基材应清洁干燥。推荐使用溶剂、O2等离子和O3清洁。

2、根据膜厚与旋转速度曲线，选择合适的MMA稀释度和旋转速度以达到所需膜厚。

3、软烘。热板150°C 60 - 90s或烘箱140°C 30分钟。

4、曝光。电子束剂量：50 - 500µC/cm2，取决于辐射源/设备和使用的显影剂；20-50kV，kV越高，分辨率越高；DUV(深紫外)：低灵敏度，剂量>500mJ/cm2，λ=248nm；x射线：PMMA的灵敏度很低，在8.3Å处约为1-2 J/cm2，x射线波长越长，灵敏度越高。最小特征尺寸<0.02µm。

5、显影。可使用浸没式（21℃）、喷淋式和搅拌式三种工艺模式。需根据工艺变量，优化显影条件以达到理想的结果。

6、冲洗及干燥。为了终止显影过程并防止结块，应在显影后立即将共聚物光刻胶浸入或喷洒1:3或1:4的MIBK:IPA，酒精或去离子水。基材通常以3000rpm旋转干燥20秒或N2吹干。

7、坚膜（可选）：从光刻胶图案上去除残留的显影剂、漂洗液和水分。热板：100°C 60 - 90s，烘箱95°C 30min。注：PMMA图像将在125℃以上回流。

8、去胶：聚物光刻胶可以通过使用MCC的Remover PG或标准洁净室溶剂(如丙酮、光刻胶稀释剂或正性光刻胶去除剂)去除。经过较高加工温度和/或坚膜的光刻胶将需要ACRYL STRIP或更积极的去除工艺。包括用去胶液PG水浴加热，以确保光刻胶被充分的去除。

储存:

确保工作间有良好的通风、排气装置。

防止气溶胶的形成。

放入密封的贮藏器，储存在阴凉、干燥的地方。

使用防爆炸的设备或装置和防火花的工具。

远离火源，禁止吸烟。

防静电。