2025年第九届研材微纳杯优秀论文征集活动已圆满结束,具体获奖情况可关注我司公众号:
研材—美图—博研
离子注入是一种掺杂技术,通过在真空中将特定元素的离子高速轰击至半导体材料(通常是硅片)中,从而精确、可控地改变其电学性能。它是现代集成电路制造中不可或缺的关键步骤。一、离子注入的目的与作用简单来说,离子注入的目的就是在指定的区域,精确地掺入特定种类和数量的杂质原子,从而形成所需的N型或P型半导体区。这些区域共同构成了晶...
喷胶工艺的常见问题,主要包括针孔、桔皮、咖啡环、颗粒、膜厚不均等,其成因及解决方法如下:1、针孔 · Pinhole局部未覆盖的小孔。成因:· 液滴过度干燥(飞行中溶剂挥发过快,形成“干粉”颗粒);· 基板表面有颗粒、油污(阻碍胶液铺展);· 雾化不良(产生大液滴或“卫星滴”,合并时留下空隙)。解决方法:· 优化雾化参...
光刻胶气动雾化喷涂是一种基于高压气体剪切液柱的涂覆技术,其核心原理是通过压缩空气将光刻胶溶液雾化成微米级液滴,并定向输运至基板表面,最终形成均匀薄膜。整个过程可分为供液雾化、载气输运、飞行挥发、基板成膜四个关键阶段,各阶段的机制及影响因素如下:1、供液与雾化:液柱破碎为微米级液滴 供液:光刻胶溶液通过精密注射泵或压力罐...
在MEMS器件的制造过程中,薄膜沉积技术如同微观世界的“基石”,其质量直接决定了器件的最终性能与可靠性。无论是智能手机中的加速度计,还是医疗领域的微型传感器,都离不开精密可控的薄膜沉积工艺。一、薄膜生长的三个阶段薄膜生长一般有三个阶段,分别是成核、凝聚和连续膜形成。 1、成核阶段气相中的原子或分子在衬底表面扩散并相互碰...
2025年第九届研材微纳杯优秀论文征集活动已圆满结束,具体获奖情况可关注我司公众号:研材—美图—博研
《简明光刻手册》是由苏州研材微纳、苏州美图半导体、西安博研微纳联合编写的光刻技术专业书籍。本书以简明易懂的方式,全面系统地介绍了光刻技术的基础理论、核心工艺、关键材料及相关应用。内容涵盖光刻技术的多个方面,主要包括以下六大部分:光刻技术概述、光刻技术的基础、光刻基本工艺步骤、掩模版、光刻胶以及光刻相关工艺。本书内容丰富...