我司编撰的《简明光刻手册》正式出版！,最新资讯,MEMS微纳代加工定制化解决方案-引领mems器件工艺新潮

《简明光刻手册》是由苏州研材微纳、苏州美图半导体、西安博研微纳联合编写的光刻技术专业书籍。本书以简明易懂的方式，全面系统地介绍了光刻技术的基础理论、核心工艺、关键材料及相关应用。

内容涵盖光刻技术的多个方面，主要包括以下六大部分：光刻技术概述、光刻技术的基础、光刻基本工艺步骤、掩模版、光刻胶以及光刻相关工艺。本书内容丰富，语言简练，既适合光刻技术领域的初学者作为入门教材，也可供相关从业者日常参考；对于相关专业的科研人员和高校师生，本书亦具有较高参考价值，能为研究、教学与实践提供有力支持。

一、本书背景

近几年，光刻技术作为“卡脖子”技术中最难攻克的领域，备受高层和社会大众的重视，越来越多的人关注和从事该方向的研究，以中国科学院微电子研究所韦亚一老师所著的《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》为代表，涌现出了一批关于光刻技术的专业著作。虽然我们中国人用中文学习光刻技术的道路步入了正轨，但在我司每年与数千位客户进行光刻技术方面的沟通中，以及作者在广泛而深入的交流和培训授课时发现，现有的书籍仍然无法满足初学者的需求，又或者从业者也缺乏对光刻技术基础知识的系统理解，这更加限制了将光刻技术灵活运用起来的步伐。

基于此，作者依据其超过二十年的光刻工艺研发与技术服务经验，结合我司的工艺实践经验，撰写了这本《简明光刻手册》。此前，我司编撰的《如何用好光刻胶》手册曾获得众多客户的好评，这印证了市场对基础原理与实际应用知识的迫切需求。《简明光刻手册》是该内容的深化与拓展，旨在为读者提供更完整、更系统的光刻知识体系，助力学习、实践与创新。

二、本书内容特点